เป้าหมายฐานทังสเตนความหนาแน่นสูง
video
เป้าหมายฐานทังสเตนความหนาแน่นสูง

เป้าหมายฐานทังสเตนความหนาแน่นสูง

1.สถิติ: เป้าหมายทังสเตนเผามีความหนาแน่นสูง กรอบโปร่งใสในระดับสูงซึ่งไม่สามารถทำได้โดยวิธีการเผาผนึกแบบกดแบบดั้งเดิม และปรับปรุงมุมโก่งอย่างมีนัยสำคัญ ส่งผลให้อนุภาคลดลงอย่างมีนัยสำคัญ
2.เงื่อนไขการชำระเงิน: การโอนเงิน เล็ตเตอร์ออฟเครดิต หรือคำขอของลูกค้า
3.เวลาในการจัดส่ง: ผลิตภัณฑ์ที่กำหนดเองตามความต้องการของลูกค้าและการเจรจารอบการผลิต
รายละเอียดสินค้า

 

เป้าหมายที่ใช้ทังสเตนความหนาแน่นสูงเป็นวัสดุที่ใช้กันอย่างแพร่หลายในอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์โดยมีคุณสมบัติดังต่อไปนี้:

 

เป้าหมายทังสเตนที่มีความบริสุทธิ์สูงเป็นสารตั้งต้นที่สำคัญสำหรับฟิล์มบางของทังสเตนออกไซด์เพื่อให้เกิดการเปลี่ยนแปลงการทำงานของอุปกรณ์เซมิคอนดักเตอร์ เนื่องจากทังสเตนมีจุดหลอมเหลวสูง เป้าหมายของทังสเตนจึงถูกเตรียมโดยวิธีโลหะผสมผงเป็นหลัก วิธีการเตรียมประกอบด้วยขั้นตอนการผสมผงทังสเตนอย่างสม่ำเสมอโดยมีความบริสุทธิ์มากกว่า 99.999% และขนาดอนุภาค 3.2-4.2 μm โดยวางไว้ในเตาบำบัดความร้อนสุญญากาศเพื่อไล่แก๊สก่อน จากนั้นจึงแนะนำ ไฮโดรเจน และให้ความร้อนต่อไปเพื่อ degass; ผงทังสเตนที่ใช้แก๊สเป็นเชื้อเพลิงทำให้ขั้นตอนการเผาผนึกหลักเสร็จสิ้นผ่านการกดร้อนด้วยสุญญากาศ แผ่นทังสเตนซินเตอร์หลักจะทำให้ขั้นตอนการซินเทอร์รองเสร็จสมบูรณ์ผ่านการกดไอโซสแตติกแบบร้อน พื้นผิวทั้งหมดของแผ่นทังสเตนเผารองได้รับการประมวลผลเชิงกล หลังจากการเจียรแล้ว จะได้วัสดุเป้าหมายทังสเตนที่มีความบริสุทธิ์สูงสำหรับเซมิคอนดักเตอร์ที่มีความบริสุทธิ์ 99.999% ขึ้นไป และมีความหนาแน่น 99% ขึ้นไป ข้อดีคือมีความบริสุทธิ์สูง ความหนาแน่นสูง และความต้านทานต่ำ

 

พารามิเตอร์ผลิตภัณฑ์

 

 

วัสดุ

ทังสเตนบริสุทธิ์

ข้อมูลจำเพาะ

เพื่อประมวลผลเป้าหมายทังสเตนทุกชนิดตามคำขอของลูกค้า

ฟิลด์แอปพลิเคชัน

สนามไมโครอิเล็กตรอน

อุตสาหกรรมจอแบน

สาขาเทคโนโลยีการจัดเก็บข้อมูล

อุตสาหกรรมเคลือบสูญญากาศ

อุตสาหกรรมแก้ว

 

กระบวนการผลิตเป้าหมายฐานทังสเตนความหนาแน่นสูง:

 

โดยทั่วไปเตรียมโดยวิธีโลหะผง ขั้นแรก วางผงทังสเตนลงในเตารักษาความร้อนสุญญากาศเพื่อทำการไล่แก๊สก่อน จากนั้นจึงแนะนำไฮโดรเจนและให้ความร้อนต่อไปเพื่อไล่แก๊ส ประการที่สอง ทำการเผาผงทังสเตนที่ผ่านการกำจัดแก๊สให้เสร็จสิ้นโดยการกดร้อนด้วยสุญญากาศ ประการที่สาม เผามันหนึ่งครั้ง ผลิตภัณฑ์เผาผนึกนั้นถูกเผารองผ่านการกดไอโซสแตติกแบบร้อน ประการที่สี่ พื้นผิวทั้งหมดของผลิตภัณฑ์เผารองจะถูกบดผ่านกระบวนการทางกลเพื่อให้ได้ผลิตภัณฑ์ หมายเหตุ: 1) ความบริสุทธิ์ของผงทังสเตนต้องสูงกว่า 99.999% และขนาดอนุภาคควรอยู่ระหว่าง 3.2-4.2μm

 

การแสดงรายละเอียดรูปภาพ

 

High Density Tungsten Base Target factory

 

High Density Tungsten Base Target in stock

 

High Density Tungsten Base Target price

 

High Density Tungsten Base Target For Sale

 
ฟิลด์แอปพลิเคชัน

 

 

พื้นที่ใช้งานผลิตภัณฑ์

เป้าหมายฐานทังสเตนความหนาแน่นสูง

High Density Tungsten Base TargetSemiconductor Industry

01

อุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์

 

02

อุตสาหกรรมไฟฟ้าโซลาร์เซลล์

 

High Density Tungsten Base Target Photovoltaic industry

High Density Tungsten Base Target Medical CT equipment
03

อุปกรณ์ซีทีการแพทย์

 

04

อุตสาหกรรมแม่เหล็กถาวรที่หายากของโลก

 

High Density Tungsten Base Target Rare earth permanent magnet industry

 

 

 

    

จัดส่งและให้บริการ

 

High Density Tungsten Base Target Package
High Density Tungsten Base Target Delivery

 

 

การให้บริการ: สามารถคืนสินค้าได้หากมีปัญหาด้านคุณภาพ

 

คำถามที่พบบ่อย

 

1. คุณสามารถจัดเตรียมตัวอย่างได้หรือไม่?

ใช่ เราสามารถจัดหาตัวอย่างฟรีให้คุณได้
2. ขนาดใดมีสต็อก?

ตามคำขอของคุณคุณสามารถสั่งซื้อได้ตลอดเวลา
3. คุณยอมรับแบบกำหนดเองหรือไม่?

ใช่ เพื่อประมวลผลเป้าหมายทังสเตนทุกชนิดตามคำขอของลูกค้า

4. ระยะเวลาการจัดส่งของคุณคืออะไร?

DHL, UPS, TNT, FedEx, EMS จะมาถึงภายใน 5-8 วัน

5. เวลาในการจัดส่งของคุณคือเท่าไร?

มีสินค้าในสต๊อก 1-2 วัน หากไม่เป็นไปตามปริมาณของคุณ

 

ประวัติบริษัท

 

Shaanxi Ehisen Technology Co., Ltd. ตั้งอยู่ในเมืองเป่าจี มณฑลส่านซี หรือที่รู้จักกันในชื่อ "หุบเขาไทเทเนียมของจีน" โดยมีข้อได้เปรียบจากห่วงโซ่อุตสาหกรรมแปรรูปโลหะที่สมบูรณ์ เราทำงานร่วมกับองค์กรในท้องถิ่นเพื่อสร้างแพลตฟอร์มนวัตกรรมและผลิตอุปกรณ์เสริมด้านพลังงานใหม่ระดับไฮเอนด์ จุดมุ่งเน้นของเราคือการจัดหาผลิตภัณฑ์และบริการคุณภาพสูง รวมถึงชิ้นส่วนกระบวนการโลหะลึกที่ปรับแต่งได้ การสนับสนุนด้าน R&D และการออกแบบและการผลิตผลิตภัณฑ์แบบโมดูลาร์

 

High Density Tungsten Base Target Company Profile

 

ติดต่อเรา

 

โทร :+86 15596885501 ลิซ่า หยาง

+86 18700703333 เอลซ่า ลิน

 

แฟกซ์ :0917-3381186

 

อีเมล :lisayang@ehisen-anode.com

 admin@ehisen-anode.com

 

เพิ่ม:เลขที่ 28 สวนอุตสาหกรรม Gaoya เขต Gaoxin เมืองเป่าจี มณฑลส่านซี

 

ป้ายกำกับยอดนิยม: เป้าหมายฐานทังสเตนความหนาแน่นสูง ประเทศจีน ผู้ผลิตเป้าหมายฐานทังสเตนความหนาแน่นสูง ซัพพลายเออร์ โรงงาน, ผลิตภัณฑ์ทังสเตนสำหรับอุปกรณ์อิเล็กทรอนิกส์ทังสเตนฟอร์จิ้นบริการ

ส่งคำถาม